
Miniaturizace elektronických zařízení vyžaduje aby materiály, ze kterých se skládají, dokázaly fungovat ve stále menších rozměrech. Vědcům z University of California - Berkeley se nyní podařilo vyrobit materiál, který vykazuje známky feroelektřiny ve vrstvě tlusté pouhé dva atomy. Zařízení s touto technologií bude moct být velmi malé a bude schopno pracovat s menším množstvím energie.
Feroelektrické materiály vykazují permanentní elektrickou polarizaci, která je měnitelná vnějším elektrickým polem. Postupně byla feroelektřina pozorována ve stále tenčích materiálech, ale pod 3 nanometry se vytrácela. Změnil to až nyní tým vědců vedený Sayeefem Salahuddinim, kterému se podařilo vyrobit na materiálu z křemíku tenkou, nanometrovou vrstvu oxidu hanfičitého (HfO2). Tento materiál prokazatelně vykazoval feroelektrický jev, a to silnější, než u některých tlustějších materiálů. Objev by mohl vést k vývoji menších mikročipů do počítačů a paměti. S tak malými rozměry by mohlo být možné stavět menší zařízení, než bylo dodnes považováno za možné. Tenké feroelektrické materiály by také mohly přinést lepší baterie a senzory.